歡迎咨詢本期，筆者重點介紹同步輻射XAFS技術(shù)，不依賴于長程有序結(jié)構(gòu)，可用于非晶態(tài)材料的研究；不受其它元素干擾，可對同一材料中不同元素分別研究；不受樣品狀態(tài)影響，可測量固體（晶體、粉末），液體（溶液、熔融態(tài)）和氣體等；對樣品無破壞，可進行原位測試；，近年來，XAFS在國內(nèi)外各大小課題組研究過程中有著越來越普及的趨勢，尤其是越來越多此前在XAFS表征方面沒有太多經(jīng)驗的新用戶也逐漸通過多種渠道借力該技術(shù)進行深入的表征，提升研究檔次。

當體系存在N種元素時，就有N（N-1）種的組合，也就是這么多種類的偏函數(shù)，但我們只知道總結(jié)構(gòu)因子，所以一個方程解三個未知數(shù)是不可能的，需要三個不同的實驗才能解出偏結(jié)構(gòu)函數(shù)，當然，我們還可以利用異常X射線散射得到偏函數(shù)，基于此，美國阿貢guo家實驗室KarenMulfort等人利用高能X射線散射和原子對分布函數(shù)（HEXS/PDF）分析觀察雙金屬Cu/Ru/Os配合物在溶液相和固態(tài)構(gòu)象的差異。

檢測精度同步輻射代算{工藝層層把關(guān)} 1. 離子濺射去除樣品表面層的時候，是對樣品表面一個特定區(qū)域進行濺射，還是同一次上樣的所有樣品都會被濺射到？ 答：是對一個區(qū)域，幾百微米到毫米級別。 2.C1s校正后，其他峰和標準峰峰位相差多少算合理？以及分峰的峰位相差在多少范圍內(nèi)合理？ 答：有些峰會偏移的大一些，一般情況，峰位相差0.5eV以內(nèi)，如果相差過大，需要考慮是否是校正存在問題。 3.峰擬合的時候，半高寬需要設(shè)置一樣嗎？ 答：一般情況，我們在初擬合的時候都是設(shè)置成一樣的，包括自旋軌道分裂峰，如果存在特殊情況，峰位相差較大，比如Ti2p、C=O是可以放開的，只要在0.7-2eV區(qū)間都是合理的。