超純水是一種用于半導體制作過程中的洗滌劑。那么，在半導體出產中運用超純水會有什么影響呢?在用納米超精密工藝處理半導體時，假如在各種工藝前后留下一個小顆粒，則會導致差錯。因而，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以保證清潔度并進步半導體出產率(輸出)。

跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

　半導體職業是一個高能耗的職業。在半導體產品制作過程中，由于出產設備的精密性和出產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水體系的運用要求更高。 　　在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質會進入硅片，如帶入過量的雜質，就會導致器件功能下降、影響產品功能。因而，制備高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技能。