今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質、出資成本、運轉辦理、適用性等方面將有更多優勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產需求經過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

集裝箱式海水淡化設備的優勢怎么? 　　1、集裝箱式海水淡化設備選用反滲透別離技能進行海水淡化脫鹽，工藝流程和操作參數經過計算機進行優化規劃。 　　2、海水淡化脫鹽工藝無需海水加溫，運轉于常溫下，無相變現象，因而能耗低，制水成本低。 　　3、規劃時充分考慮船舶的特殊性，體積小，重量輕，占用省、安裝便利、適應性強，可在狹小的艙室內安裝。機架管路、管件選用316不銹鋼及耐蝕資料制作。 　　4、集裝箱式海水淡化設備操作簡略，修理便利，只需有電、有海水，啟動后就能立即供給淡水。