實(shí)驗(yàn)室凈化原理： 亂流干凈室的主要特性是歷來(lái)流到出流（從送風(fēng)口到回風(fēng)口）之間氣流的流通截面是變化的，干凈室截面比送風(fēng)口截面大得多，因此不能在全室截面或者在全室工作區(qū)截面構(gòu)成勻速氣流。所以，送風(fēng)口以后的流線彼此有很大或者越來(lái)越大的夾角，曲率半徑很小，氣流在室內(nèi)不可能以單一方向活動(dòng)，將會(huì)彼此撞擊，將有回流、旋渦產(chǎn)生。這就決議亂流干凈室的流態(tài)本質(zhì)是：突變流；非平均流。 這比用紊流來(lái)描繪亂流干凈室更確切、更全面。紊流主要決議于雷諾數(shù)，也就是主要受流速的影響，但是假如采用一個(gè)高效過(guò)濾器頂送的送風(fēng)方式，則即便流速極低，也要產(chǎn)生上述各種結(jié)果，這就由于它是一個(gè)突變流和非平均流。因而這種狀況下不只有流層之間因紊流活動(dòng)而發(fā)作的摻混，而且還有全室范圍內(nèi)的大的回流、旋渦所發(fā)作的摻混。

干凈室中的溫濕度控制 干凈空間的溫濕度主要是依據(jù)工藝請(qǐng)求來(lái)肯定，但在滿足工藝請(qǐng)求的條件下，應(yīng)思索到人的溫馨度感。隨著空氣干凈度請(qǐng)求的進(jìn)步，呈現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的請(qǐng)求也越來(lái)越嚴(yán)的趨向。詳細(xì)工藝對(duì)溫度的請(qǐng)求以后還要羅列，但作為總的準(zhǔn)繩看，由于加工精度越來(lái)越精密，所以對(duì)溫度動(dòng)搖范圍的請(qǐng)求越來(lái)越小。例如在大范圍集成電路消費(fèi)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱收縮系數(shù)的差請(qǐng)求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，所以必需有±0.1度的恒溫，同時(shí)請(qǐng)求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對(duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間溫度不宜超越25度，濕渡過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超越55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，假如發(fā)作在精細(xì)安裝或電路中，就會(huì)惹起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將經(jīng)過(guò)空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學(xué)吸附在外表難以肅清。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于外表，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)作擊穿。關(guān)于硅片消費(fèi)最佳濕度范圍為35—45%。

這里有必要先闡明一下無(wú)窗干凈室的照明方式： (1)普通照明它指不思索特殊的部分需求，為照亮整個(gè)被照面積而設(shè)置的照明。 (2)部分照明這是指為增加某一指定地點(diǎn)（如工作點(diǎn)）的照度而設(shè)置的照明。但在室內(nèi)照明由普通不單獨(dú)運(yùn)用部分照明。 (3)混合照明這是指工作面上的照度由普通照明和部分照明合成的照明，其中普通照明的照度按《干凈廠房設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)》應(yīng)占總照度的10%—15%，但不低干150LX。 單位被照面積上承受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。國(guó)外干凈室的強(qiáng)度請(qǐng)求極高，例如美國(guó)關(guān)于干凈室的幾個(gè)規(guī)范的請(qǐng)求是． 人工光300lx有較好的效果，當(dāng)工件精密水平更高時(shí)，500x也是允許的。關(guān)于要紅燈照明的中央，如電子行業(yè)的光刻車(chē)間，其照度普通為(25—501x)，用自然光時(shí)可允許更高的照度，因此對(duì)工作是有利的，所以今后干凈室的照明既采用人工光也采用自然光可能是有出路的，這也是為了節(jié)能而呈現(xiàn)的一種意向。 4、防靜電干凈室中由于靜電惹起的的事故屢有發(fā)作，因而干凈室的防靜電才能如何已成為評(píng)價(jià)其質(zhì)量的一個(gè)不可無(wú)視的方面。